CTR – Großgeräte für Forschungsreinraum

3 Loselaut Bekanntmachung

1. Inductively coupled plasma refractive ion etcher (ICP-RIE)

   Laufzeit ab Signal

   Für unseren Forschungsreinraum im Bereich MEMS benötigen wir eine induktiv gekoppelte Plasma-Ionenätzer (ICP-RIE) Anlage. Das System muss reinraumtauglich sein und soll sowohl mit Fluor- als auch Chlorprozessen kompatibel sein. Die Hauptanwendung ist das Silizium-Tiefätzen (sog. Bosch-Verfahren) sowie das Ätzen dünner SiO2, Si3N4, Al und Pt Schichten. Das System muss neu sein und Wafer bis zu eine

2. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)

   Laufzeit ab Signal

   Des Weiteren suchen wir für unseren Forschungsreinraum eine plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidungsanlage (PECVD) zur Abscheidung amorpher Silizium, Si3N4, SiON und SiO2 Schichten. Das System muss neu sein und Wafer bis zu einem Durchmesser von 200 mm handhaben können. Neben der Lieferung der genannten Anlage wird die Wartung der Anlage optional ausgeschrieben.

3. Nanoindenter

   Laufzeit ab Signal

   Nanoindentation Gerät zur Bestimmung der Härte- und E-Modulbestimmung an Schichtwerkstoffen bis typischerweise einige Mikrometer Dicke. Des Weiteren sollen auch Scratchtests durchführbar sein. Proben sollen auch beheizbar sein und die Messung im beheizten Zustand durchgeführt werden. Neben der Lieferung der genannten Anlage wird die Wartung der Anlage optional ausgeschrieben.